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文献
J-GLOBAL ID：200902123223623545
整理番号：99A1040633
大気圧プラズマCVD法によるアモルファスSiの高速成膜に関する研究 (第1報) 回転電極型大気圧プラズマCVD装置の設計・試作
High-Rate Deposition of Amorphous Silicon Thin Films by Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition. (1st Report). Design and Production of the Atmospheric Pressure Plasma CVD Apparatus with Rotary Electrode.
森勇蔵
(大阪大 大学院)
,
芳井熊安
(大阪大 大学院)
,
安武潔
(大阪大 大学院)
,
垣内弘章
(大阪大 大学院)
,
木山精一
(三洋電機)
,
樽井久樹
(三洋電機)
,
堂本洋一
(三洋電機)
資料名：
精密工学会誌
(Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 65 号： 11 ページ： 1600-1604 発行年： 1999年11月05日
JST資料番号： F0268A ISSN： 0912-0289 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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