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文献
J-GLOBAL ID：200902123707197605
整理番号：94A0851320
プラズマCVD法で作製したYSZ薄膜
Research on YSZ thin films prepared by plasma-CVD process.
CAO C-B
(Fudan Univ., Shanghai, CHN)
,
WANG J-T
(Fudan Univ., Shanghai, CHN)
,
YU W-J
(Univ. Science and Technology of China, Hefei, CHN)
,
PENG D-K
(Univ. Science and Technology of China, Hefei, CHN)
,
MENG G-Y
(Univ. Science and Technology of China, Hefei, CHN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 249 号： 2 ページ： 163-167 発行年： 1994年09月15日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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