文献
J-GLOBAL ID:200902124208986204
整理番号:02A0173245
低圧力,室温インプリントリソグラフィープロセスによる非平坦基板上のパターン形成
Patterning nonflat substrates with a low pressure, room temperature, imprint lithography process.
著者 (8件):
COLBURN M
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
GROT A
(Agilent Technol., California)
,
CHOI B J
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
AMISTOSO M
(Agilent Technol., California)
,
BAILEY T
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
SREENIVASAN S V
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
EKERDT J G
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
WILLSON C G
(Univ. Texas at Austin, Texas)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
19
号:
6
ページ:
2162-2172
発行年:
2001年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)