文献
J-GLOBAL ID:200902124271231981
整理番号:02A0272792
無電解めっきによるSi(111)スクラッチ上のNiドット配列形成
Ni Dot Array Formation on Scratches of Si(111) by Electroless Deposition.
著者 (4件):
KIM C
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
OIKAWA Y
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
SHIN J
(Daejeon Univ., Daejeon, KOR)
,
OZAKI H
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
41
号:
2B
ページ:
L178-L179
発行年:
2002年02月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)