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文献
J-GLOBAL ID:200902124381768794   整理番号:97A0501815

マグネトロンスパッタ法で形成したTa2O5光学薄膜の力学的性質

Physical Properties of Tantalum Pentoxide Thin Film Fbricated by RF-Magnetron Sputtering Method.
著者 (9件):
神村共住
(大阪工大 工)
加納元
(大阪工大 工)
越智完好
(大阪工大 工)
吉田国雄
(大阪工大 工)
吉田英次
(大阪大 レーザー核融合研セ)
藤田尚徳
(大阪大 レーザー核融合研セ)
田村繁治
(大阪工技研)
谷二三夫
(新明和工業)
砂川道夫
(新明和工業)

資料名:
真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)

巻: 40  号:ページ: 126-129  発行年: 1997年03月 
JST資料番号: G0194A  ISSN: 0559-8516  CODEN: SHINA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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