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文献
J-GLOBAL ID：200902124381768794
整理番号：97A0501815
マグネトロンスパッタ法で形成したTa2O5光学薄膜の力学的性質
Physical Properties of Tantalum Pentoxide Thin Film Fbricated by RF-Magnetron Sputtering Method.
神村共住
(大阪工大 工)
,
加納元
(大阪工大 工)
,
越智完好
(大阪工大 工)
,
吉田国雄
(大阪工大 工)
,
吉田英次
(大阪大 レーザー核融合研セ)
,
藤田尚徳
(大阪大 レーザー核融合研セ)
,
田村繁治
(大阪工技研)
,
谷二三夫
(新明和工業)
,
砂川道夫
(新明和工業)
資料名：
真空
(Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 40 号： 3 ページ： 126-129 発行年： 1997年03月
JST資料番号： G0194A ISSN： 0559-8516 CODEN： SHINA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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