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文献
J-GLOBAL ID：200902124732519737
整理番号：00A0181092
電子ビーム蒸着法によるSnOx薄膜陰極の電気化学及び充放電特性
Charge/Discharge Performance of Electron Beam Deposited Tin Oxide Thin Film Negative Electrodes.
NAM S C
(Korea Univ., Seoul, KOR)
,
YOON Y S
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
CHO W I
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
CHO B W
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
YUN K S
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
CHUN H S
(Korea Univ., Seoul, KOR)
資料名：
電気化学および工業物理化学
(Electrochemistry)
巻： 68 号： 1 ページ： 32-37 発行年： 2000年01月05日
JST資料番号： G0072A ISSN： 1344-3542 CODEN： EECTFA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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