文献
J-GLOBAL ID:200902124738996014
整理番号:93A0844542
Calibration of lithography simulator by using sub-rsolution patterns.
著者 (2件):
KAPLAN S
(National Semiconductor, Migdal Ha’Emek, ISR)
,
KARKLIN L
(Silvaco International, CA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1927
号:
Pt 2
ページ:
858-867
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)