文献
J-GLOBAL ID:200902125036617925
整理番号:93A0405747
チャネル内における荷電粒子の沈着
Deposition of charged particles in a channel.
著者 (3件):
CHEN R Y
(New Jersey Inst. Technology, NJ, USA)
,
CHEN W C
(New Jersey Inst. Technology, NJ, USA)
,
LAI C S
(New Jersey Inst. Technology, NJ, USA)
資料名:
Powder Technology
(Powder Technology)
巻:
74
号:
2
ページ:
135-140
発行年:
1993年02月01日
JST資料番号:
B0730A
ISSN:
0032-5910
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)