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文献
J-GLOBAL ID：200902125240458500
整理番号：93A0390996
シリコンとふっ素エッチ剤との界面における金属不純物の偏析と除去
Segregation and Removal of Metallic Impurity at Interface of Silicon and Fluorine Etchant.
OHMI T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
IMAOKA T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KEZUKA T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
TAKANO J
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KOGURE M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 140 号： 3 ページ： 811-818 発行年： 1993年03月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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