文献
J-GLOBAL ID:200902125527674238
整理番号:97A0063923
焼結Ta-Niターゲットを用いたエキシマレーザアブレーションによる蒸着アモルファス合金膜
Amorphous alloy films deposited by excimer laser ablation using sintered Ta-Ni targets.
著者 (4件):
YANO T
(AIST, MITI, Kagawa, JPN)
,
OOIE T
(AIST, MITI, Kagawa, JPN)
,
YONEDA M
(AIST, MITI, Kagawa, JPN)
,
KATSUMURA M
(AIST, MITI, Kagawa, JPN)
資料名:
Journal of Materials Science Letters
(Journal of Materials Science Letters)
巻:
15
号:
22
ページ:
1994-1996
発行年:
1996年11月15日
JST資料番号:
D0919B
ISSN:
0261-8028
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)