文献
J-GLOBAL ID:200902125531004417
整理番号:93A0387837
Reactive ion-plating at low ion energies with an unbalanced magnetron.
著者 (3件):
HOWSON R P
(Loughborough Univ. Technology, Leicestershire, GBR)
,
JA’FER H A
(Loughborough Univ. Technology, Leicestershire, GBR)
,
SPENCER A G
(Loughborough Consultants Ltd., Leicestershire, GBR)
資料名:
Vacuum
(Vacuum)
巻:
44
号:
3/4
ページ:
191-195
発行年:
1993年03月
JST資料番号:
E0347A
ISSN:
0042-207X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)