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文献
J-GLOBAL ID：200902125890237699
整理番号：99A0983644
フェムト秒レーザプラズマX線を用いたシリコンの時分解軟X線吸収分光
Time-resolved soft x-ray absorption spectroscopy of silicon using femtosecond laser plasma x rays.
NAKANO H
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
GOTO Y
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
LU P
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
NISHIKAWA T
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
UESUGI N
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 75 号： 16 ページ： 2350-2352 発行年： 1999年10月18日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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