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文献
J-GLOBAL ID：200902125960008897
整理番号：95A0503480
窒化炭素薄膜の低温合成
Low temperature synthesis of thin films of carbon nitride.
GHANASHYAM KRISHNA M
(Indian Inst. Sci., Bangalore, IND)
,
GUNASEKHAR K R
(Indian Inst. Sci., Bangalore, IND)
,
MOHAN S
(Indian Inst. Sci., Bangalore, IND)
資料名：
Journal of Materials Research
(Journal of Materials Research)
巻： 10 号： 5 ページ： 1083-1085 発行年： 1995年05月
JST資料番号： D0987B ISSN： 0884-2914 CODEN： JMREEE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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