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文献
J-GLOBAL ID：200902126003222638
整理番号：02A0173275
157nmにおける浸漬リソグラフィー
Immersion lithography at 157nm.
SWITKES M
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
ROTHSCHILD M
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 19 号： 6 ページ： 2353-2356 発行年： 2001年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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