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文献
J-GLOBAL ID：200902126101545844
整理番号：00A0692987
193-nmレジスト用の先端材料
Advanced Materials for 193-nm Resists.
SHIDA N
(TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN)
,
USHIROGOUCHI T
(TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN)
,
ASAKAWA K
(TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN)
,
OKINO T
(TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN)
,
SAITO S
(TOSHIBA Corp., Kanagawa, JPN)
,
TAKARAGI A
(Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN)
,
TSUTSUMI K
(Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN)
,
INOUE K
(Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN)
,
NAKANO T
(Daicel Chemical Ind. Corp., Hyogo, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13 号： 4 ページ： 601-606 発行年： 2000年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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