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文献
J-GLOBAL ID：200902126157835632
整理番号：01A1033607
in situ自己還元によるシリカ薄膜中に埋め込まれた高密度銀ナノ粒子の形成と特性評価
Formation and characterization of high-density silver nanoparticles embedded in silica thin films by “in situ” self-reduction.
COMPAGNINI G
(Univ. Catania, Catania, ITA)
,
FRAGALA M E
(Univ. Catania, Catania, ITA)
,
D’URSO L
(Univ. Catania, Catania, ITA)
,
SPINELLA C
(IMeTeM, CNR, Catania, ITA)
,
PUGLISI O
(Univ. Catania, Catania, ITA)
資料名：
Journal of Materials Research
(Journal of Materials Research)
巻： 16 号： 10 ページ： 2934-2938 発行年： 2001年10月
JST資料番号： D0987B ISSN： 0884-2914 CODEN： JMREEE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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