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文献
J-GLOBAL ID：200902126535321812
整理番号：00A0240124
低速電子ビーム近接リソグラフィー(LEEPL) 最も簡単なものが最良か
Low-Energy E-Beam Proximity Lithography (LEEPL). Is the Simplest the Best?
UTSUMI T
(Technische Univ. Wien, AUT)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38 号： 12B ページ： 7046-7051 発行年： 1999年12月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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