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文献
J-GLOBAL ID：200902126794854926
整理番号：00A0692995
157nmレジスト材料 進捗報告
157 nm Resist Materials: A Progress Report.
CHIBA T
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
HUNG R J
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
YAMADA S
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
TRINQUE B
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
YAMACHIKA M
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
SOMERVELL M
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
BYERS J
(SEMATECH, TX)
,
CONLEY W
(SEMATECH, TX)
,
WILLSON C G
(Univ. Texas at Austin, TX)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13 号： 4 ページ： 657-664 発行年： 2000年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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