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文献
J-GLOBAL ID：200902127272909085
整理番号：99A0396261
高周波プラズマ補助マグネトロンスパッタリングによって作製したTi-Al-N薄膜の相転移と相特性
Phase transition and properties of Ti-Al-N thin films prepared by r.f.-plasma assisted magnetron sputtering.
ZHOU M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MAKINO Y
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
NOSE M
(Takaoka National Coll., Toyama, JPN)
,
NOGI K
(Takaoka National Coll., Toyama, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 339 号： 1/2 ページ： 203-208 発行年： 1999年02月08日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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