文献
J-GLOBAL ID:200902127892391337
整理番号:02A0962158
Cr2O3テンプレートを用いたスパッタリングによるα-Al2O3薄膜の低温堆積
Low temperature deposition of α-Al2O3 thin films by sputtering using a Cr2O3 template.
著者 (7件):
JIN P
(National Inst. Advanced Industrial Sci. & Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
XU G
(National Inst. Advanced Industrial Sci. & Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
TAZAWA M
(National Inst. Advanced Industrial Sci. & Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
YOSHIMURA K
(National Inst. Advanced Industrial Sci. & Technol. (AIST), Nagoya, JPN)
,
MUSIC D
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
ALAMI J
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
HELMERSSON U
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
20
号:
6
ページ:
2134-2136
発行年:
2002年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)