文献
J-GLOBAL ID:200902128079767199
整理番号:93A0961156
電子ビーム蒸着によって作った非晶質Siの熱容量と緩和の熱量測定による研究
Calorimetric studies of the heat capacity and relaxation of amorphous Si prepared by electron beam evaporation.
著者 (3件):
TSANG K H
(Chinese Univ. Hong Kong, HKG)
,
KUI H W
(Chinese Univ. Hong Kong, HKG)
,
CHIK K P
(Chinese Univ. Hong Kong, HKG)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
74
号:
8
ページ:
4932-4935
発行年:
1993年10月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)