文献
J-GLOBAL ID:200902128325003012
整理番号:95A0658365
ジメチルエチルアミン・アランとアンモニアを用いる常圧有機金属化学蒸着による低温でのAlN蒸着
Deposition of AIN at lower temperatures by atmospheric metalorganic chemical vapor deposition using dimethylethylamine alane and ammonia.
著者 (8件):
KIDDER J N JR
(Univ. Washington, Washington)
,
KUO J S
(Univ. Washington, Washington)
,
LUDVIKSSON A
(Univ. Washington, Washington)
,
PEARSALL T P
(Univ. Washington, Washington)
,
ROGERS J W JR
(Univ. Washington, Washington)
,
GRANT J M
(Sharp Microelectronics Technol. Inc., Washington)
,
ALLEN L R
(Sharp Microelectronics Technol. Inc., Washington)
,
HSU S T
(Sharp Microelectronics Technol. Inc., Washington)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
13
号:
3 Pt 1
ページ:
711-715
発行年:
1995年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)