文献
J-GLOBAL ID:200902128695752421
整理番号:94A0347103
非晶質シリコンにおける電子,正孔及びHall効果
Electrons, Holes, and the Hall Effect in Amorphous Silicon.
著者 (5件):
MORGAN G J
(Leeds Univ., Leeds, GBR)
,
OKUMU J
(Leeds Univ., Leeds, GBR)
,
HOLENDER J M
(Leeds Univ., Leeds, GBR)
,
WEAIRE D
(Trinity Coll., Dublin, IRL)
,
HOBBS D
(Trinity Coll., Dublin, IRL)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
164/166
号:
Pt 1
ページ:
457-460
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)