文献
J-GLOBAL ID:200902128830581675
整理番号:94A0347093
交互ドープ非晶質シリコンの欠陥密度と光電気特性
Defect density and photoelectrical properties of alternative doped amorphous silicon.
著者 (5件):
SCHMAL J
(TU Dresden, Dresden, DEU)
,
KIRSCH R
(TU Dresden, Dresden, DEU)
,
ALBERT M
(TU Dresden, Dresden, DEU)
,
STAHR F
(TU Dresden, Dresden, DEU)
,
BINDEMANN R
(TU Dresden, Dresden, DEU)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
164/166
号:
Pt 1
ページ:
415-418
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)