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文献
J-GLOBAL ID：200902129090645581
整理番号：99A0237713
157nmリソグラフィーにおける未解決の問題
Critical issues in 157nm lithography.
BLOOMSTEIN T M
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
ROTHSCHILD M
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
KUNZ R R
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
HARDY D E
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
GOODMAN R B
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
PALMACCI S T
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 16 号： 6 ページ： 3154-3157 発行年： 1998年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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