文献
J-GLOBAL ID:200902129349037399
整理番号:93A0960048
Injection-related damage in metal-oxide-silicon tunnel diodes.
著者 (4件):
FARMER K R
(New Jersey Inst. Technology, NJ)
,
LUNDGREN P
(Chalmers Univ. Technology, Gothenburg, SWE)
,
ANDERSSON M O
(Chalmers Univ. Technology, Gothenburg, SWE)
,
ENGSTROM O
(Chalmers Univ. Technology, Gothenburg, SWE)
資料名:
Amorphous Insulating Thin Films
(Amorphous Insulating Thin Films)
ページ:
229-234
発行年:
1993年
JST資料番号:
K19930557
ISBN:
1-55899-179-4
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)