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文献
J-GLOBAL ID：200902129731169343
整理番号：99A0751902
Tiマスク層を用いた高温での白金エッチング
High temperature platinum etching using Ti mask layer.
KIM H-W
(Samsung Electornics, Kyungki-Do, KOR)
,
JU B-S
(Samsung Electornics, Kyungki-Do, KOR)
,
NAM B-Y
(Samsung Electornics, Kyungki-Do, KOR)
,
YOO W-J
(Samsung Electornics, Kyungki-Do, KOR)
,
KANG C-J
(Samsung Electornics, Kyungki-Do, KOR)
,
AHN T-H
(Samsung Electornics, Kyungki-Do, KOR)
,
MOON J-T
(Samsung Electornics, Kyungki-Do, KOR)
,
LEE M-Y
(Samsung Electornics, Kyungki-Do, KOR)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 17 号： 4,Pt.2 ページ： 2151-2155 発行年： 1999年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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