文献
J-GLOBAL ID:200902129834081606
整理番号:93A0778392
非晶質SiC膜におけるN+注入による化学的および組成的変化
Chemical and compositional changes induced by N+ implantation in amorphous SiC films.
著者 (9件):
LAIDANI N
(Univ. Trento, Trento, ITA)
,
BONELLI M
,
MIOTELLO A
,
CALLIARI L
(Inst. Ricerca Scientifica e Tecnologica, Trento, ITA)
,
ELENA M
(Inst. Ricerca Scientifica e Tecnologica, Trento, ITA)
,
BERTONCELLO R
(Univ. Padova, Padova, ITA)
,
GLISENTI A
(Univ. Padova, Padova, ITA)
,
CAPELLETTI R
(Univ. Parma, Parma, ITA)
,
OSSI P
(Politecnico di Milano, Milano, ITA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
74
号:
3
ページ:
2013-2020
発行年:
1993年08月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)