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J-GLOBAL ID：200902129888272334 整理番号：00A0174728

146nmの照射におけるスルホン酸発生重合体

Sulfonic Acid Generating Polymers for 146 nm Irradiation.

著者 (3件)：

SHIRAI M

(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)

SHINOZUKA T

(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)

TSUNOOKA M

(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)

資料名：

Journal of Photopolymer Science and Technology (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻： 12 号： 5 ページ： 721-724 発行年： 1999年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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