文献
J-GLOBAL ID:200902130300523385
整理番号:01A0657348
純アルゴンガス下でのrfマグネトロンスパッタリングによる高品質CMR薄膜の堆積
Deposition of high quality CMR thin films by rf magnetron sputtering under pure argon gas.
著者 (3件):
TANG W H
(Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
,
KAM T L
(Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
,
GAO J
(Univ. Hong Kong, Hong Kong, CHN)
資料名:
Materials Research Bulletin
(Materials Research Bulletin)
巻:
36
号:
7/8
ページ:
1463-1469
発行年:
2001年05月
JST資料番号:
B0954A
ISSN:
0025-5408
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)