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文献
J-GLOBAL ID：200902130498336119
整理番号：01A0770319
エバネセント近接場でのナノリソグラフィー
Nanolithography in the Evanescent Near Field.
ALKAISI M M
(Univ. Canterbury, Christchurch, NZL)
,
BLAIKIE R J
(Univ. Canterbury, Christchurch, NZL)
,
MCNAB S J
(Univ. Canterbury, Christchurch, NZL)
資料名：
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻： 13 号： 12/13 ページ： 877-887 発行年： 2001年07月04日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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