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文献
J-GLOBAL ID：200902130547166941
整理番号：95A0141442
深紫外線レジスト候補材料中の熱及び酸触媒脱保護機構
Thermal and acid-catalyzed deprotection kinetics in candidate deep ultraviolet resist materials.
WALLRAFF G
(IBm Almaden Research Center, California)
,
HUTCHINSON J
(Univ. California, California)
,
HINSBERG W
(IBm Almaden Research Center, California)
,
HOULE F
(IBm Almaden Research Center, California)
,
SEIDEL P
(IBm Almaden Research Center, California)
,
JOHNSON R
(IBm Almaden Research Center, California)
,
OLDHAM W
(Univ. California, California)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 12 号： 6 ページ： 3857-3862 発行年： 1994年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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