文献
J-GLOBAL ID:200902130920412990
整理番号:95A0040704
分子軌道法を用いた光CVD SiO2膜中欠陥構造の評価
Investigation of Defects in SiO2 Photo-Chemical Vapor Deposition Film by using Molecular Orbital Calculation.
著者 (3件):
金島岳
(大阪大 基礎工)
,
奥山雅則
(大阪大 基礎工)
,
浜川圭弘
(大阪大 基礎工)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
94
号:
367(SDM94 140-156)
ページ:
63-70
発行年:
1994年11月25日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)