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文献
J-GLOBAL ID:200902131188816346   整理番号:93A0661666

集合組織をもつYBa2Cu2O7-δおよびイットリア安定化ジルコニア緩衝層を用いた(100)Si上のPb(Zr0.54Ti0.46)O3薄膜のレーザ物理蒸着による作製

Preparation of Pb(Zr0.54Ti0.46)O3 thin films on (100)Si using textured YBa2Cu3O7-δ and yttria-stabilized zirconia buffer layers by laser physical vapor deposition technique.
著者 (3件):
TIWARI P
(North Carolina State Univ., North Carolina)
ZHELEVA T
(North Carolina State Univ., North Carolina)
NARAYAN J
(North Carolina State Univ., North Carolina)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 63  号:ページ: 30-32  発行年: 1993年07月05日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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