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文献
J-GLOBAL ID：200902131188816346
整理番号：93A0661666
集合組織をもつYBa2Cu2O7-δおよびイットリア安定化ジルコニア緩衝層を用いた(100)Si上のPb(Zr0.54Ti0.46)O3薄膜のレーザ物理蒸着による作製
Preparation of Pb(Zr0.54Ti0.46)O3 thin films on (100)Si using textured YBa2Cu3O7-δ and yttria-stabilized zirconia buffer layers by laser physical vapor deposition technique.
TIWARI P
(North Carolina State Univ., North Carolina)
,
ZHELEVA T
(North Carolina State Univ., North Carolina)
,
NARAYAN J
(North Carolina State Univ., North Carolina)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 63 号： 1 ページ： 30-32 発行年： 1993年07月05日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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