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文献
J-GLOBAL ID：200902131200334662
整理番号：02A0735123
亜酸化窒化SiO2/Si界面の原子モデル
An atomic model of the nitrous-oxide-nitrided SiO2/Si interface.
KUSHIDA-ABDELGHAFAR K
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
WATANABE K
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
KIKAWA T
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
KAMIGAKI Y
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
USHIO J
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 92 号： 5 ページ： 2475-2478 発行年： 2002年09月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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