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文献
J-GLOBAL ID:200902131226162843   整理番号:97A0194392

エッチング媒質として水蒸気を用いたレジストの電子ビーム誘起エッチング

Electron-beam induced etching of resist with water vapor as the etching medium.
著者 (2件):
KOHLMANN-VON PLATEN K T
(Fraunhofer Inst. Siliziumtechnol.(ISiT), Berlin, DEU)
BRUENGER W H
(Fraunhofer Inst. Siliziumtechnol.(ISiT), Berlin, DEU)

資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

巻: 14  号:ページ: 4262-4266  発行年: 1996年11月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 1071-1023  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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