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文献
J-GLOBAL ID：200902131226162843
整理番号：97A0194392
エッチング媒質として水蒸気を用いたレジストの電子ビーム誘起エッチング
Electron-beam induced etching of resist with water vapor as the etching medium.
KOHLMANN-VON PLATEN K T
(Fraunhofer Inst. Siliziumtechnol.(ISiT), Berlin, DEU)
,
BRUENGER W H
(Fraunhofer Inst. Siliziumtechnol.(ISiT), Berlin, DEU)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 14 号： 6 ページ： 4262-4266 発行年： 1996年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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