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文献
J-GLOBAL ID：200902131716485136
整理番号：99A0577430
基板を調整した高周波マグネトロン・スパッタリング法による炭化ほう素薄膜の析出
Boron carbide thin films deposited by tuned-substrate RF magnetron sputtering.
PASCUAL E
(Univ. Barcelona, Barcelona, ESP)
,
MARTINEZ E
(Univ. Barcelona, Barcelona, ESP)
,
ESTEVE J
(Univ. Barcelona, Barcelona, ESP)
,
LOUSA A
(Univ. Barcelona, Barcelona, ESP)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 8 号： 2/5 ページ： 402-405 発行年： 1999年03月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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