文献
J-GLOBAL ID:200902131845921180
整理番号:98A0261460
ペンタキス(ジエチルアミド)タンタルを使ったTaCN膜の低温における堆積
Low Temperature Deposition of TaCN Films Using Pentakis(diethylamido)tantalum.
著者 (5件):
JUN G-C
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
CHO S-L
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KIM K-B
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
SHIN H-K
(Ultra Pure Chemical Inc., Suwon, KOR)
,
KIM D-H
(Chonnam National Univ., Kwangju, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
37
号:
1A/B
ページ:
L30-L32
発行年:
1998年01月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)