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文献
J-GLOBAL ID：200902132002510591
整理番号：97A0694013
改善した誘導結合プラズマからの非晶質および結晶性けい素膜の低温成長
Low Temperature Growth of Amorphous and Polycrystalline Silicon Films from a Modified Inductively Coupled Plasma.
GOTO M
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TOYODA H
(Matsushita Electric Industrial Co., Kyoto, JPN)
,
KITAGAWA M
(Matsushita Electric Industrial Co., Kyoto, JPN)
,
HIRAO T
(Matsushita Technores. Inc., Osaka, JPN)
,
SUGAI H
(Matsushita Technores. Inc., Osaka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36 号： 6A ページ： 3714-3720 発行年： 1997年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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