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文献
J-GLOBAL ID:200902132194389120   整理番号:01A0245532

極めて薄いAlN障壁を持つ二次元電子ガスAlN/GaNヘテロ構造

Two-dimensional electron-gas AlN/GaN heterostructures with extremely thin AlN barriers.
著者 (8件):
SMORCHKOVA I P
(Univ. California, California)
KELLER S
(Univ. California, California)
HEIKMAN S
(Univ. California, California)
ELSASS C R
(Univ. California, California)
HEYING B
(Univ. California, California)
FINI P
(Univ. California, California)
SPECK J S
(Univ. California, California)
MISHRA U K
(Univ. California, California)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 77  号: 24  ページ: 3998-4000  発行年: 2000年12月11日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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