文献
J-GLOBAL ID:200902132194389120
整理番号:01A0245532
極めて薄いAlN障壁を持つ二次元電子ガスAlN/GaNヘテロ構造
Two-dimensional electron-gas AlN/GaN heterostructures with extremely thin AlN barriers.
著者 (8件):
SMORCHKOVA I P
(Univ. California, California)
,
KELLER S
(Univ. California, California)
,
HEIKMAN S
(Univ. California, California)
,
ELSASS C R
(Univ. California, California)
,
HEYING B
(Univ. California, California)
,
FINI P
(Univ. California, California)
,
SPECK J S
(Univ. California, California)
,
MISHRA U K
(Univ. California, California)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
77
号:
24
ページ:
3998-4000
発行年:
2000年12月11日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)