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文献
J-GLOBAL ID：200902132316507587
整理番号：98A0689133
IBAD法によって作成した(Ti1-x,Alx)N薄膜の構造と経年変化
Microstructure and Secular change of (Ti1-x,Alx)N Films prepared by IBAD.
鈴木常生
(大阪大 接合科研)
,
巻野勇喜雄
(大阪大 接合科研)
,
節原裕一
(大阪大 接合科研)
,
三宅正司
(大阪大 接合科研)
,
SAMANDI M
(Univ. Wollongong)
資料名：
高温学会誌
(Journal of High Temperature Society)
巻： 24 号： 4 ページ： 165 発行年： 1998年07月
JST資料番号： F0907B ISSN： 0387-1096 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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