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文献
J-GLOBAL ID：200902132494067264
整理番号：93A0580318
けい素上のAl2O3膜の電子ビーム誘起非晶質-結晶質転移のその場透過電子顕微鏡観察による研究
An in situ transmission electron microscopy study of electron-beam-induced amorphous-to-crystalline transformation of Al2O3 films on silicon.
LIU J
(State Univ. New York at Albany, New York)
,
BARBERO C J
(State Univ. New York at Albany, New York)
,
CORBETT J W
(State Univ. New York at Albany, New York)
,
RAJAN K
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
LEARY H
(IBM Corp., New York)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 73 号： 10 Pt 1 ページ： 5272-5273 発行年： 1993年05月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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