文献
J-GLOBAL ID:200902132807031460
整理番号:93A0950240
ウエハ裏面を使用して傾き効果を打ち消す,新しい0.1μmリソグラフィーのためのアラインメント法
Novel alignment technique for 0.1-μm lithography using the wafer rear surface and canceling tilt effect.
著者 (3件):
KATAGIRI S
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
MORIYAMA S
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
TERASAWA T
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
資料名:
Optical Engineering
(Optical Engineering)
巻:
32
号:
10
ページ:
2344-2349
発行年:
1993年10月
JST資料番号:
B0577B
ISSN:
0091-3286
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)