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文献
J-GLOBAL ID：200902132838961156
整理番号：93A0912179
非晶質シリコン膜のエキシマレーザ結晶化における相転移機構
Phase transformation mechanisms involved in excimer laser crystallization of amorphous silicon films.
IM J S
(Columbia Univ., New York)
,
KIM H J
(Columbia Univ., New York)
,
THOMPSON M O
(Cornell Univ., New York)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 63 号： 14 ページ： 1969-1971 発行年： 1993年10月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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