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J-GLOBAL ID：200902132918075980 整理番号：00A0935143

回折光学素子作製のための電子ビーム近接効果補正法の有効性と限界

Validity and Limitation of a Proximity-Compensation Method for Febricating Diffractive Optical Elements Using the Direct-Writing Electron-Beam Lithography.

著者 (5件)：

岡野正登

(大阪科学技術セ)

山本和也

(ナルックス)

四谷任

(大阪科学技術セ)

平井義彦

(大阪府大工)

菊田久雄

(大阪府大工)

資料名：

光学 (Japanese Journal of Optics)

巻： 29 号： 9 ページ： 566-572 発行年： 2000年09月10日
JST資料番号： G0125B ISSN： 0389-6625 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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