文献
J-GLOBAL ID:200902133030273437
整理番号:99A0248292
表面構造制御分子線エピタクシー層上への低圧化学蒸着による3C-SiCのエピタキシャル成長
Epitaxial growth of 3C-SiC by low-pressure chemical vapor deposition on a surface-structure-controlled molecular beam epitaxy layer.
著者 (2件):
UCHIDA M
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
KITABATAKE M
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
335
号:
1/2
ページ:
32-36
発行年:
1998年12月14日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)