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文献
J-GLOBAL ID：200902133080130440
整理番号：99A0518469
低い基板温度における低抵抗酸化インジウムすず薄膜のパルスレーザ蒸着
Pulsed Laser Deposition of Low-Resistivity Indium Tin Oxide Thin Films at Low Substrate Temperature.
ADURODIJA F O
(Hyogo Prefectural Inst. Industrial Res. (HPIR), Kobe, JPN)
,
IZUMI H
(Hyogo Prefectural Inst. Industrial Res. (HPIR), Kobe, JPN)
,
ISHIHARA T
(Hyogo Prefectural Inst. Industrial Res. (HPIR), Kobe, JPN)
,
YOSHIOKA H
(Hyogo Prefectural Inst. Industrial Res. (HPIR), Kobe, JPN)
,
MATSUI H
(Hyogo Prefectural Inst. Industrial Res. (HPIR), Kobe, JPN)
,
MOTOYAMA M
(Hyogo Prefectural Inst. Industrial Res. (HPIR), Kobe, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38 号： 5A ページ： 2710-2716 発行年： 1999年05月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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