文献
J-GLOBAL ID:200902133482479814
整理番号:93A0943238
背面に多結晶シリコン膜を堆積したCzochralskiウエハの反り
Warp of Czochralski Wafer with Back-Surface Polycrystalline Silicon Film.
著者 (4件):
MIYAIRI H
(Mitsubishi Materials Slicon Corp., Noda)
,
TSUCHIYA S
(Mitsubishi Materials Corp., Saitama)
,
YOSHIOKA H
(Mitsubishi Materials Slicon Corp., Noda)
,
SUGA H
(Mitsubishi Materials Slicon Corp., Noda)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
32
号:
9A
ページ:
3687-3691
発行年:
1993年09月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)