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文献
J-GLOBAL ID:200902133880886942   整理番号:00A0644436

石英ガラスにおける中性子照射で生成する放射バンドのアニーリング特性

Annealing Behavior of Emission Bands Induced by Neutron Irradiation in Silica Glass.
著者 (8件):
NASU S
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
SUTANI T
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
ISHIDA S
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
KOSHINO A
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
YAMAMOTO R
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
NANTO H
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
TANIFUJI T
(Japan Atomic Energy Res. Inst., Ibaraki, JPN)
MORIMOTO Y
(Ushio Res. Inst. Technol., Inc., Shizuoka, JPN)

資料名:
Journal of Light & Visual Environment  (Journal of Light & Visual Environment)

巻: 24  号:ページ: 36-41  発行年: 2000年05月 
JST資料番号: S0965A  ISSN: 0387-8805  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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