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文献
J-GLOBAL ID：200902133980084169
整理番号：00A0812243
化学蒸着により成長させたSi1-xGex/Si歪超格子と緩和仮想基板の構造評価
Structural characterization of Si1-xGex/Si strained superlattices and relaxed virtual substrates grown by chemical vapor deposition.
BOZZO S
(CRMC2-CNRS, Marseille, FRA)
,
LAZZARI J-L
(CRMC2-CNRS, Marseille, FRA)
,
HOLLAENDER B
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
COUDREAU C
(CRMC2-CNRS, Marseille, FRA)
,
RONDA A
(CRMC2-CNRS, Marseille, FRA)
,
MANTL S
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
D’AVITAYA F A
(CRMC2-CNRS, Marseille, FRA)
,
DERRIEN J
(CRMC2-CNRS, Marseille, FRA)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 164 ページ： 35-41 発行年： 2000年09月01日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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